| 加工定制：是 | 型号：BW30-400/34 | 品牌：DOW |
| 进水口径：DN25mm | 产水量：1T/H | 规格：8040 |
| 工作压力：225psi |
| 电子工业用超纯水概述 | |
| 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 | |
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| 用两级反渗透制取 电子工业超纯水处理设备 | 采用两级反渗透主机加EDI 制取电子工业超纯水处理设备 |
| 制备电子工业用超纯水的工艺流程 | |
| 电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种： 1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点 3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点 | |
| 采用离子多级离子交换树脂制取电子工业超纯水处理采用反渗透加EDI电去离子制取电子工业超纯水处理 | |
| 三种制备电子工业用超纯水的工艺比较 | |
目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面： | |
| 采用多级反渗透制取电子工业超纯水处理采用电去离子（EDI）电去离子制取电子工业超纯水处理 | |
| 我们公司生产的电子超纯水设备特点设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。采用碳钢多级离子交换制取电子工业超纯水处理还未装入树脂的去离子设备 | |
| 电子工业用超纯水的应用领域 | |
| 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路； 2、超纯材料和超纯化学试剂； 3、实验室和中试车间； 4、汽车、家电表面抛光处理； 5、光电产品； 6、其他高科技精微产品； | |
工流程图
